●発刊予定：２０１３年６月２８日　　　　　　　●体　　　裁：Ａ４判　８９０頁　　　　　　　●定　　　価：９９，７５０円(税込)

本書のポイント

光学薄膜の最適設計・成膜技術と

★高い光学特性、高耐久性・高信頼性、低応力、基板の小型薄型化への対応、光学以外の機能性付与

　　　成膜現場で発生している今までに無いトラブル、ニーズに１００名以上の専門家が応える

【光学レンズ・フィルム、有機ＥＬ、タッチパネル、太陽電池、ＬＥＤ など最新事例で解説】 ６月 新刊書籍

３００部限定

膜厚・膜質・光学特性の制御

▼本書ではこんな最新事例を取り上げています ▼各成膜手法の膜厚・膜質制御と再現性向上について詳解

▼どの分野でも共通するトラブル対策と分析・評価技術を掲載

・真空蒸着� � � ・スパッタリング法（高速低温）

・ロールtoロール� � � ・イオンプレーティング

・イオンアシスト蒸着� � ・アーク蒸着法

・大気圧プラズマ� � � ・スピンコート法

・ゾル－ゲル法� � � ・グラビアコート

・スプレーコート� � � ・微細凹凸形成

◎トラブル事例

【応力】【歪み】【クラック】【剥離】の発生要因・メカニズムとその対策

◎分析・評価技術

・応力、密着力の測定と評価方法� ・耐摩耗性と密着性評価法

・付着性と付着力の評価� � ・膜厚分布、膜形状の測定方法

・光学薄膜の反射率の高精度測定

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・透明導電膜の低ダメージ低温高速スパッタ成膜

【タッチパネル】・タッチパネルへのＡＲコートと耐指紋性付与

・ＩＴＯ、銀ナノワイヤー透明導電フィルムの成膜と低抵抗化

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・ガラス基板への透明導電膜の成膜技術

・反射防止膜の最適設計と光学解析

・色素増感太陽電池用透明導電膜の低抵抗化技術

【ＬＥＤ】

・ＬＥＤ実装に向けたＩＴＯ膜厚・膜質の最適化

【レンズ】・デジタルカメラ用レンズへの光学薄膜の成膜技術

・ガラス光学部品への紫外線カット付与技術

他にも、自動車用ガラス、光通信、医療機器などを掲載

▼光学薄膜への新たな機能性の付与技術

【親水/撥水性】 【防汚性】 【防曇性】 【耐指紋性】 【耐擦傷性】

第1章　光学薄膜の最適設計手法

第2章　光学薄膜に求められる材料技術

第1節　光学薄膜の設計・成膜のための光学理論１．光学薄膜の設計と成膜に必要な屈折率　1.1 屈折率�� 1.2 透過・吸収・反射

第2節　光学多層膜の最適設計手法１．光学多層膜の解析理論　1.1 入射光，反射光，透過光に関する電磁場の表示　1.2 強度反射率および強度透過率　1.3 特性マトリクス　1.4 多層膜の特性マトリクス　1.5 多層膜の強度反射率および強度透過率２．波長分散と吸収　2.1 波長分散の考慮� 2.2 吸収性の考慮３．感度解析４．光学多層膜の設計　4.1 解析と設計について　4.2 設計問題と最適化　4.3 最適化問題と最適化手法５．勾配法の概要　(a) 共役勾配法の基本手順　(b) 初期解の設定� (c) 評価関数の多峰性　(d) 探索方向の決定� (e) 微係数の計算　(f) 収束判定� (g) １次元探索　(h) 評価関数の一例� (i) 基本構造６．光学基礎理論および多層膜設計の参考書

第3節　コンピュータによる光学薄膜の最適化設計１. 最適化設計　1.1 メリット関数(Merit Function) 　1.2 収束計算法� 1.3 最適化法２．Needle法による最適化設計３．バンドパスフィルタの設計４．設計例　4.1 可視光反射防止膜　4.2 バンドパスフィルタ　4.3 マルチバンドパスフィルタ　4.4 チャープミラー　4.5 キューブ型偏光無依存ビームスプリッタ　4.6 反射型1/４波長板　4.7 2次の反射帯を除去したミラー５．コンピュータによる成膜シミュレーションと歩留まり６．膜材料の光学定数７．リバースエンジニアリング(Reverse Engineering)

第4節　反射防止膜の最適設計手法１．単波長反射防止膜２．２波長反射防止膜３．広帯域反射防止膜　3.1 4層λ/4構成広帯域反射防止膜と　　　　　　　　　　　　　　　等価膜広帯域反射防止膜　3.2 広帯域反射防止膜の角度特性の改善４．屈折率波長分散と反射率特性５．モスアイ反射防止膜

第5節　UV・IRカットフィルターの設計手法と成膜技術１．UV・IRカットフィルター２．UV・IRカットフィルターの種類３．光学薄膜によるUV・IRカットフィルター４．UV・IRカットフィルターの設計　4.1 多層膜ミラーの基本設計　4.2 エッジフィルターの基本設計　4.3 UV・IRカットフィルターの設計５．UV・IRカットフィルターの成膜　5.1 UV・IRカットフィルターに求められる基本要素　5.2 UV・IRカットフィルターの成膜条件

第1節　光学薄膜形成用真空蒸着材料１．さまざまな蒸着方法とその材料２．蒸着材料に対する要求　2.1 蒸着材料� 2.2 化学的な純度　2.2.2 物理的性質� 2.2.3 工程の適正化３．蒸着材料、その特性と応用　3.1 屈折率の選択� 3.2 低屈折材料　3.3 中間屈折率材料� 3.4 高屈折率材料　　(1) ３層反射防止コーティング用の材料選択　　(2) ２種の材料による　　　　多層反射防止コーティングのための材料選択

第2節　反射防止膜用シリカの表面処理と分散技術１．反射防止膜の原理２．反射防止膜の設計３．低屈折率薄膜を得るには４．シリカナノ粒子の表面処理５．シランカップリング剤を用いた表面化学修飾　5.1 加水分解触媒およびpH　5.2 処理温度　5.3 撹拌速度・処理時間　5.4 シランカップリング剤の種類および添加量６．反射防止膜に求められる特性

第3節　有機・無機ハイブリッド材料による　　　　　　　　　　　　　　薄膜形成と光機能への展開１．薄膜の形成とその応用例２．反射防止用２層膜の形成３．高屈折率膜の作製４．セルパターンの出現５．フォトリソグラフィーによる　　　　　　　　　　　　光導波路、微細パターンの作製

第4節　化合物太陽電池用ターゲット材料１．CIGS系太陽電池　1.1 一般的なCIGS系太陽電池の紹介

第1節　光学薄膜の高精度高反射率測定１．高反射率ミラーの必要性と光学特性の保証２．ミラーの反射率の測定方法　2.1 一般的な分光光度計の反射率測定法　　　　　　　　(V-N法、V-W法、相対反射率測定法)　2.2 レーザーを用いた反射率測定法３．一般的な分光測定機と　　　　　　　　多重反射を利用した高精度測定法　3.1 多重反射を利用した高精度測定法の原理　3.2 従来のV-N法との測定精度の比較　3.3 高精度測定を用いた測定例　　3.3.1 測定例(1)成膜材料・成膜方法による　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　反射率の差異測定　　3.3.2 測定例(2)層数の違いと反射率の差異測定　　3.3.3 測定例(3)同一成膜装置による成膜再現性評価

第2節　分光エリプソメトリーによる薄膜の光物性評価１．エリプソメトリーとは２．なぜ分光なのか　2.1 分極によって発生する透過光の遅れ　2.2 Lorentzモデル　2.3 誘電関数の周波数依存とそのモデル化３．分光エリプソメトリーと分光干渉法の比較４．エリプソメーター５．スペクトル解析の流れ　(1) Ψ，Δスペクトル測定　(2) 光学モデルの構築　(3) シミュレーション　(4) パラメーターフィッティング　(5) 収束結果の評価６．薄膜評価への応用　6.1 光学コーティング用高屈折率材料の光学定数決定　6.2 透明電極の屈折率傾斜膜解析　6.3 フォトニック結晶用誘電体多層膜

第3節　薄膜の耐摩耗性と密着性評価法１．耐摩耗性　1.1 摩耗(Wear)とは� 1.2 耐摩耗性評価法２．密着評価法　2.1 密着とは　　2.1.1 密着と剥離� 2.1.2 非剥離による評価　2.2　密着性評価法　　2.2.1 応力測定� 2.2.2 エネルギー密度測定　　2.2.3 力測定� 2.2.4 その他の測定法

第4節　薄膜の応力・密着力の測定と評価方法１．薄膜における応力・密着力の基礎知識２．薄膜の応力測定と評価　2.1 直接的測定法：X線回折法　2.2 間接的測定法：ラマン分光法　2.3 マクロな測定法：基板曲率法３．密着力の測定と評価

第5節　 薄膜・コーティングの硬さ測定法１．硬さ試験と関連技術による機械的特性評価　1.1 硬さ� � 1.2 押し込み硬さの定義　1.3 超微小硬さ試験法(ナノインデンテーション法)　1.4 荷重－変位曲線の解析法２．ナノインデンテーション法による薄膜の機械的特性評価　2.1 塑性硬さの評価� 2.2 弾性定数の評価

第6節　直接式光学膜厚モニターシステム１．直接式光学膜厚モニターシステム　1.1 直接式間欠型モニターシステムの構成と特徴　1.2 直接式多波長型光学膜厚モニターシステム

第7節　光干渉法による膜厚分布・膜形状の測定方法１．透明厚膜の膜形状測定　1.1 厚膜対応アルゴリズム(KF法)　1.2 測定例�� 1.3 断層表示２．透明薄膜の膜形状測定　2.1 薄膜対応アルゴリズム(NF法)　2.2 測定例３．透過干渉法による膜厚分布測定　3.1 原理� � 3.2 測定例４．膜厚と屈折率の同時測定法５．干渉色解析法による膜厚分布測定　5.1 測定原理　5.2 測定例

第8節　多層薄膜の接着性評価とその支配因子解析１．接着支配因子と表面・界面

第1節　真空蒸着による光学薄膜形成の　　　　　　　　　　　　　再現性向上と低パーティクル化１．真空蒸着による光学薄膜形成の再現性向上　1.1 真空関係� 1.2 膜厚計関係　1.3 その他２．真空蒸着による光学薄膜形成の低パーティクル化

第2節　ロールtoロールにおけるスパッタリング成膜技術１．スパッタリング装置構成２．高効率カソードの開発３．長尺方向のITOシート抵抗安定化検討

第3節　R2R小型真空成膜装置の技術と応用１．要素技術　1.1 ウェブハンドリング技術　1.2 真空技術２．開発装置の概要� ３．光学薄膜への応用

第4節　電子ビーム蒸着用電子銃について１．電子銃の特長２．電子銃の原理　2.1 電子ビーム発生源の原理　2.2 電子ビームの偏向原理　2.3 電子ビームの走査原理　2.4 偏向形電子銃の動作原理３．電子銃の応用例

第5節　電子ビーム蒸着法による　　　　　　　　　　　　　　光学薄膜の高精度成膜技術１．IADプロセス特徴２．IAD効果よる膜質改善３．高品質、高生産性共立IAD技術(EPD装置)

第6節　スパッタ法による薄膜化技術の基礎と応用１．成膜技術としてのスパッタ法　1.1 スパッタ法の原理　1.2 代表的なスパッタ成膜法　　1.2.1 直流二極スパッタ法　　1.2.2 マグネトロン・スパッタ法２．スパッタ成膜プロセスの特徴と薄膜化応用　2.1 スパッタ薄膜の機械的な特性　2.2 スパッタ成膜時の基板温度上昇　2.3 機能性材料の薄膜化

第7節　スパッタ成膜過程と膜物性・特性１．プロセス解析手法� ２．スパッタ蒸発過程３．スパッタ粒子の輸送過程４．スパッタ粒子の堆積過程

第8節　スパッタリング法による　　　　　　　　　　光学多層膜の最適設計・成膜技術１．大型基板に対するスパッタ成膜技術　1.1 インピーダンス制御による高速成膜　1.2 カソード構造と膜厚分布２．タッチパネル向け光学多層膜　2.1 反射防止膜� 2.2 Invisible-ITO膜３．小径基板に対する高精密スパッタ成膜技術　3.1 膜厚分布制御、積層膜シフト制御　3.2 膜構造

第9節　RAS方式による　　　　　　　光学薄膜の低温成膜技術とその膜特性１．原理と特徴２．RAS光学薄膜の特性　2.1 膜厚制御� 2.2 プロセスの再現性、安定性　2.3 中間屈折率膜の応用�2.4 基板温度　2.5 RASの応用

第10節　高速低温スパッタリング技術による　　　　　　　薄膜構造制御と機能性光学膜への応用１．高速低温スパッタリング技術　1.1 代表的な成膜技術とその概要　1.2 本技術の特徴と成膜装置２．薄膜構造と化学アニーリング効果３．様々な光学薄膜への応用　3.1 酸化チタン光触媒薄膜　　3.1.1 2段階ステップ成膜手法の特徴　　3.1.2 薄膜構造

　1.2 CIGS膜の作製方法および課題３．光吸収層用ターゲット作製および成膜例　2.1 ターゲットの作製　2.2 CIGS膜の作製例３．スパッタ法を利用した太陽電池　3.1 CIGSターゲットを用いた太陽電池の紹介　3.2 スパッタ法で作製したバッファ層　3.3 オールスパッタプロセスで作製した太陽電池

第5節　光学ポリマーの屈折率制御・高透明化とエイジング１. 屈折率制御　1.1 屈折率と分子構造　1.2 光学ポリマーの屈折率予測システム２． 高透明化　2.1 高透明化のための高次構造制御　2.2 高透明化のための分子設計　2.3 光学ポリマーの透明性予測システム３．光学ポリマーのエイジング　3.1 エイジングに伴う屈折率変化　3.2 エイジングに伴う複屈折変化　3.3 エイジングと透明性

第3章　光学薄膜の分析・評価技術

２．接着性支配因子評価のための表面分析法３．薄膜分析の難しさ

第9節　ガラス基板のヤケの測定手法と評価技術　　　　　　～ヤケがある基板の膜特性～１．ヤケの評価　1.1 ヤケのメカニズム� 1.2 目視検査　1.3 干渉計による評価� 1.4 AFM測定　1.5 表面硬度測定２．ヤケの膜への影響　2.1 ヤケの膜構造への影響

第10節　薄膜X線の測定技術１．薄膜試料のX線による測定の基礎２．実試料の測定事例　2.1 ITO薄膜の事例　-配向性のない試料の測定　2.2 ZnO薄膜の事例　-配向性のある試料の測定　2.3 IZGO薄膜の事例 -X線反射率測定　　　　　　　　　　　　　　　＝膜厚・密度の評価

第11節　FIB-(S)TEMによる膜厚評価１．TEMの原理� ２．STEMの原理３．FIBの原理４．FIB-(S)TEMを用いたプラスティックレンズ上の　　　　　　　　　　　　　　反射防止膜の評価例の紹介５．FIB-(S)TEMを用いた有機EL素子の評価例の紹介

第4章　光学薄膜の成膜技術と　　　　　　　　 膜厚・膜質の制御

　　3.1.3 光触媒特性　3.2 エレクトロクロミック材料　　3.2.1 T2O5固体電解質薄膜　　3.2.2 WO3還元発色薄膜

第11節　反応性高速スパッタ法による　　　　　　　　　　　光学薄膜の作製技術と膜質制御１．ロータリーカソード技術３．反応性スパッタとは　2.1 ヒステリシス、遷移領域について　2.2 遷移領域制御� 2.3 インピーダンス制御　2.4 プラズマエミッション(PEM)制御３．光学膜への応用

第12節　メタルモードスパッタリングによる　　　　　　　　　　　　　光学膜の成膜技術と膜質制御１．メタルモードスパッタリング成膜装置　1.1 スパッタリング室の構成・特徴　1.2 反応室におけるプラズマ反応素過程２．多層膜フィルタの成膜例　2.1 Nb2O5/SiO2多層膜フィルタ　2.2 傾斜屈折率膜フィルタ　　2.2.1 中間屈折率膜� 2.2.2 フィルター設計　　2.2.3 傾斜屈折率膜フィルタ

第13節　直流パルススパッタを用いた　　　　　　　　SiOxNyから成る光反射防止膜の作製１．DCパルススパッタリング装置２．SiOxNy中間屈折率層の形成３．反射防止膜の作製

第14節　膜厚制御システムによる　　　　　　　　光学多層膜の成膜技術と条件最適化１．スパッタ装置に実装した基板直視膜厚計とその応用　1.1 RASスパッタ装置とは　1.2 スパッタTargetのレート変動の例　1.3 現状のRASスパッタ装置での成膜方法(時間制御)　1.4 光学式直視膜厚計を用いた生産　1.5 光学式基板直視膜厚計を搭載する　　　　　　　　　　　　　　　　新機能RASスパッタ装置　　1.5.1 光学式直視膜厚計とは　　1.5.2 in-situ基板直視膜厚計の主な性能と仕様　1.6 膜厚計を用いた成膜例　　1.6.1 5層ARの成膜例(直視膜厚計による　　　　　　　　　　　　　レート係数フィードバック制御)２．IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計　2.1 IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計の特徴　2.2 基板直視膜厚計の構成　2.3 基板直視膜厚計の制御方法4)　2.4　膜厚誤差の自己補正について　　2.4.1 Non-Turning-Point法について　　2.4.2 膜厚傾斜法による構成例　　2.4.3 膜厚制御誤差の影響　2.5 直視膜厚計実機成膜例　　2.5.1 実験装置　　2.5.2 3Cavity42層NBPF実機成膜例３．結論　3-1 直視膜厚計搭載した新機能RASスパッタ装置　3-2 IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計の応用

第15節　真空アーク蒸着法による　　　　　　　　光学薄膜の成膜技術と膜質・膜厚の制御１．真空アーク蒸着技術　1.1 真空アーク現象と蒸着技術　1.2 フィルタードアーク蒸着法２．DLC膜の特性　2.1 DLC膜の色� 2.2 DLC膜の光学定数３．成膜技術　3.1 膜質制御� 3.2 膜厚分布制御　3.3 膜厚制御

第16節　大気圧プラズマによる　　　　　　　単層反射防止膜の低温・高速形成技術１．VHF励起大気圧プラズマCVD法および装置２．大気圧VHFプラズマによるSiOxの成膜特性　2.1 SiH4とCO2を用いた成膜　2.2 HMDSOとO2を用いた成膜

第17節　イオンプレーテイング法による　　　　　　　　　　　　光学薄膜の成膜技術・膜質制御１．イオンプレーテイング法が　　　　光学技術分野に応用されるまでの発展経緯２．イオンプレーティングと他の成膜法との差異３．光学薄膜に用いられる　　　　　　　　　　　イオンプレーテイング装置の源流　3.1 ARE(電子線による励起、衝撃)を利用する方法　3.2 HCD(Hollow Cathode Discharge)型　　　　　　　　　　　　　　　　　　電子銃を用いる方法　3.3 高周波励起法４．光学分野に用いられているイオンプレーティング技術　4.1 HCD法　　4.1.1 HCDガンを蒸発源として用いる方法　4.2 ARE法　4.3 高周波励起イオンプレーティング法　　4.3.1 高周波励起イオンプレーティング法　　　4.3.1.1 有機無機複合材料による　　　　　　　　　　　　　　　　MgF2薄膜の屈折率制御　　　4.3.1.2 機能性透明導電膜・ITOの低比抵抗化　　4.3.2 基板に直設高周波電界を印加する方法　4.4 その他のイオンプレーティング技術による　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　光学薄膜の作成法　　4.4.1 アークイオンプレーティング(AIP)を利用する方法　　4.4.2 クラスターイオンビーム法を用いるTiO2の成膜法

第18節　イオンアシスト蒸着による　　　　　　　　　　　　フッ素薄膜の形成と密着性改善

第5章　光学薄膜の　　　　トラブル発生要因とその解析

１．蒸着重合による高分子薄膜形成２．イオンを援用した蒸着法３．イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜形成４．イオン照射エネルギーによる膜物性の制御５．付着強度�� ６．光反射防止特性７．傾斜機能膜の形成

第19節　低抵抗ITO膜の形成方法と導電率の向上１．スパッタ法によるガラス基板上ITO成膜　1.1 スパッタ成膜方法　1.2 ガラス基板上成膜ITOの特性　　1.2.1 電気特性および膜構造の膜厚依存　　1.2.2 膜厚に伴うキャリア総数　　1.2.3 キャリア電子源としての酸素空孔とその生成過程　　1.2.4 テンプレートの形成と低い抵抗率(高い導電率)

第20節　プラスチック基板への　　　　　　　　　　　　　　透明導電性薄膜の成膜技術１．透明導電膜材料と薄膜作製法　1.1 透明導電膜材料　1.2 透明導電薄膜作製方法２．プラスチックフィルムへの透明導電膜作製例と諸特性　2.1 低電圧化マグネトロンスパッタ法によるITO薄膜の作製例　2.2 低エネルギーイオンプレーティングによるＩＴＯ薄膜　2.3 パルスレーザーディポジション(PLD)法によるITO薄膜　2.4 低温プロセスによるITO薄膜の諸特性と課題　2.5 N‐MHVスパッタ法による低抵抗・結晶化ITO薄膜　　2.5.1 N‐MHVスパッタ装置の特徴　　2.5.2 低温プロセスITO薄膜の成膜条件と諸特性　　2.5.3 ナノ積層化によるITO薄膜の低抵抗化及び結晶化３．金属合金／誘電体ナノ積層化による低抵抗透明導電膜　3.1 金属／酸化物ナノ積層化透明導電薄膜　3.2 金属／窒化物ナノ積層化透明導電薄膜　　3.2.1 AlN/Cu/AlNナノ積層化透明導電膜　　3.2.2 AlN/Ag/AlNナノ積層化透明導電膜４．今後の課題とまとめ

第21節　酸化亜鉛透明導電膜のプラズマ低温合成法１．研究開発の背景　1.1 TCFの導電性と透過性　1.2 各種材料からのTCF合成　1.3 ICPのパラメータ制御とTCF合成２．実験装置と方法　2.1 実験装置� 2.2 プラズマ発光分光装置　2.3 実験手順３．実験結果と検討　3.1 プラズマ発光分光� 3.2 TCF透過率の波長依存性　3.3 薄膜基礎特性の膜厚依存性とアンドープの確証　3.4 水素添加の効果と近赤外透過特性

第22節　ミストCVD法による　　ZnO系薄膜の成膜と透明導電膜・光学薄膜応用１．ミストCVD法とは２．ZnO系薄膜の成膜方法と膜厚コントロール３．ZnO系薄膜の応用４．ミストCVD法の各種酸化物薄膜成膜への応用

第23節　金属添加酸化亜鉛透明導電膜　　　　スパッタ成膜過程におけるプラズマ支援効果１．Al添加ZnO透明導電膜とICP支援マグネトロンスパッタ２．ICP重畳DCマグネトロンスパッタ装置と実験方法　2.1 ICP重畳DCマグネトロンスパッタ　　　　　　　　　　　　(ICP重畳DCMS)装置と成膜方法　2.2 AZO膜の評価方法　2.3 ターゲット・ICPコイル・基板間距離の設定３．Al添加ZnOのICP支援　　　マグネトロンスパッタ成膜におけるICP-RF電力の効果　3.1 ICP-RF電力の重畳が放電特性に与える効果　3.2 成膜速度のICP RF 電力依存性　3.3 膜抵抗率のICP-RF 電力依存性　3.4 光透過率のICP-RF 電力依存性　3.5 X線回折パターンのICP-RF 電力依存性　3.6 その他のプロセスパラメータへの　　　　　　　　　　　　　　　　　ICP-RF電力などの影響

第24節　TiO2系透明導電膜の　　　　　　　　　　　　　　スパッタ成膜技術と低抵抗化１．TiO2系透明導電膜２．TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術　2.1 ガラス上へのTNO薄膜の作製手順　2.2 スパッタTNO薄膜の特性　2.3 さらなる低抵抗化と低コストプロセスに向けて３．低抵抗TNO薄膜の光学的特徴　3.1 GaNとの屈折率マッチング　3.2 近赤外領域における高い透過率

第25節　光学法、X線法による　　　　　　　アモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析１．光電子デバイスにおけるTCOとTOSと光学設計２．a-IGZOの光学評価と物性３．分光エリプソメトリーおよび　　　　　　　　　　　X線反射スペクトル (XRR) の応用４．a-IGZOの極薄薄膜成長過程への応用５．a-IGZOの構造緩和その場観察６．a-IGZO/a-GaOx人工超格子の構造解析と物性

第26節　モスアイ型反射防止膜における　　　　　　　　　　　　　　　微細構造形成と大面積化１．陽極酸化にもとづく規則ポーラス構造の形成２．ポーラスアルミナにもとづくモスアイ型反射防止膜３．突起形状の最適化４．モスアイ構造の大面積化

第27節　ナノ周期構造による　　　　　　反射防止フィルタの作製技術とその応用１．SWGの設計� ２．SWGの製作

３．光学特性

第28節　塗布法による反射防止膜の作製技術１．反射防止処理の種類と反射防止の原理　1.1 AG処理�� 1.2 ARコート　1.3 AR+AGコート２．塗布法による反射防止膜の作製３．反射スペクトルシミュレーションによる　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　反射防止膜の設計

第29節　フッ素コーティングによる反射防止膜の形成技術１．膜形成技術　1.1 膜構成�� 1.2 膜形成技術２．フッ素系コーティング膜形成技術

第30節　スピンコート法による　　　　　　　　　　光学多層膜の作製技術と膜厚制御１．スピンコート法による　　　　　　　　　　光学多層膜の作製技術と膜厚制御　1.1 スピンコート法による多層膜作製　　1.1.1 多層膜作製の条件　　1.1.2 膜厚制御法　1.2 受動素子～レーザーミラー　1.3 能動素子～光機能素子化　　1.3.1 可飽和吸収色素による　　　　　　　　　　マイクロチップレーザーのＱスイッチ　　1.3.2 蛍光色素による　　　　　　　　　　　　面発光ＤＦＢ固体色素レーザー

第31節　ナノ粒子の積層技術と反射防止膜の形成１．単一粒子径の粒子のみを用いて　　　　　　　　　　　　作製した防汚性反射防止ガラス２．粒子径の異なる粒子を組み合わせて　　　　　　　　　　　　作製した防汚性反射防止ガラス　2.1 粒子径の異なる粒子を　　　　　　　　　混合塗布した防汚性反射防止ガラス　2.2 大径粒子を塗布後、　さらに小径粒子を塗布した防汚性反射防止ガラス３．ラズベリー構造の粒子を用いて作製した　　　　　　　　　　　　　　　　　 防汚性反射防止ガラス　3.1 ラズベリー構造の粒子の作製　3.2 ラズベリー構造の粒子を用いて作製した　　　　　　　　　　　　　　　　　 防汚性反射防止ガラス　3.3 ラズベリー構造の粒子を用いて作製した　　　　　　　　　　超撥水防汚性透明反射防止ガラス

第32節　蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計と作製１．蛍光体の薄膜化２．蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計３．Y2O3:Bi3+,Eu3+/SiO2積層膜の作製と光学特性４．擬モスアイ構造を有する傾斜型蛍光体薄膜

第33節　プラスチック表面への　　　　　　　　　　　ガラスコート技術と表面高機能化１．ガラスコート　1.1 パーヒドロキシポリシラザン　1.2 ポリシラザンのシリカ転化２．ガラスコートによるガスバリア性付与　2.1 ガスバリア性　2.2 ポリイミドフィルムへのガスバリア性付与　　2.2.1 処理条件の影響　　2.2.2 加熱・紫外線併用処理による処理温度の低温化３．ガラスコートによるハードコート性付与　3.1 ハードコート性　3.2 プラスチック表面へのハードコート性付与　　3.2.1 スチールウール磨耗　　3.2.2 鉛筆硬度４．ガラスコートによる反射防止成付与　4.1 反射防止性　4.2 ガラスコートのAnti-Reflection技術への応用　4.3 低屈折率ガラスコートの反射防止性能

第34節　ＩＴＯナノインク用　　　　　　　　　　単分散粒子の液相合成と低抵抗化１．スパッタ法と塗布法� ２．ITOナノインク調製３．ITOナノ粒子合成プロセス設計４．ソルボサーマル法ITOナノ粒子合成

第35節　光硬化性材料による　　　　　　　　　　　　光学薄膜への機能性付与技術１．光硬化型学薄膜コーティング材料の基本設計２．機能性光学薄膜についてについて　2.1 透明ハードコティング材料　2.2 吸収波長コントロール型コーティング材料　2.3 高屈折率薄膜コーティング材料

第36節　プラスチックフィルム上への　　　　　　有機・無機薄膜の作成技術と密着性評価１．気相反応により形成した透明無機薄膜２．物理気相蒸着により形成した　　　　　　　　　　　　　フッ素系有機薄膜の光学特性３．物理気相蒸着により形成した透明薄膜の密着性

第37節　ゾル－ゲル法による　　　　プラスチックスへのセラミック薄膜の成膜技術１．プラスチックス表面に　　　　　　セラミック薄膜を作製するための既存技術３．ゾル-ゲル焼成膜を　　　　　　　　　　プラスチックス表面に転写する技術　2.1 工程の概略　2.2 接着剤を使用した転写　2.3 プラスチック基板表面の溶融による転写　2.4 セラミック膜のパターニング

第38節　ソルボサーマル法による　　　ZnOナノ粒子を用いた薄膜作製とその膜特性１．ソルボサーマル法によるZnOナノ粒子合成

　1.1 ソルボサーマル法とは　1.2 合成法２．薄膜の作製　2.1 電気泳動堆積法による製膜　2.2 焼成条件� 2.3 ZnO膜の特性

第39節　カーボンナノチューブを用いた　　　　　　　　　透明導電膜の作製技術と低抵抗化１．カーボンナノチューブ２．カーボンナノチューブ透明導電膜の作製技術３．カーボンナノチューブ透明導電膜の低抵抗化　3.1 金属型単層カーボンナノチューブを　　　　　　　　　　　　　　　　　　用いた透明導電膜　3.2 カーボンナノチューブ透明導電膜への　　　　　　　　　　　　　　　　　　　キャリアドーピング

第40節　プラズマCVDによる　　　　　　　グラフェン透明導電膜の低温・高速形成１．ニッケル、銅を基材とするグラフェンの熱ＣＶＤ合成 ２．低温合成法の必要性３．グラフェンのプラズマCVD合成４．表面波励起マイクロ波プラズマCVDによるグラフェン合成５．グラフェンのロールTOロール成膜６．他のITO代替透明導電膜材料との比較７．グラフェン透明導電フィルムのロードマップ

第41節　光学薄膜製造のための微小光学部品の洗浄技術１．光学部品の進展　1.1 信頼性規格� 1.2 外観規格２．光学部品の洗浄に必要な要素技術　2.1 付着物の分析� 2.2 洗浄剤の選定　2.3 超音波の選定� 2.4 洗浄治具　2.5 乾燥� � 2.6 環境への対応３．洗浄システム例　3.1 洗浄システム構成例� 3.2 システム構成の注意点

第1節　スパッタリング薄膜における応力発生と薄膜付着力１．スパッタリング薄膜における応力　1.1 応力とは何か� 1.2 応力の発生原因　1.3 スパッタリング薄膜における熱応力と真応力の関係　1.4 スパッタリング薄膜における応力の実際２．スパッタリング薄膜における付着力　2.1 付着力とは何か� 2.2 付着力の実際　2.3 付着力の向上　　2.3.1 基板加熱� 2.3.2 前処理　　2.3.3 後処理� 2.3.4 接着中間層の挿入　　2.3.5 アンカー効果の利用　2.4 付着性と応力

第2節　薄膜における内部応力，　　　　　　　　　　　　　応力・ひずみの発生メカニズム１．内部応力の膜厚変化２．内部応力をもたらす機構のいろいろ３．熱応力と真性内部応力の競合現象

第3節　プラスチック基板への成膜における　　　　　トラブル対策 ～剥離・内部応力・均一成膜１．プラスチックフィルム� ２．付着３．プラスチック基板への膜付着力を向上させる工夫　3.1 アンダーコーティング(中間層)　3.2 物理的表面改質　　3.2.1 光　　3.2.2 電子ビーム，イオンビーム　　3.2.3 プラズマ処理４．内部応力５．均一成膜　5.1 ロールtoロールプロセスの特徴と品質不良の対策　5.2 原材料(Material)� 5.3 設備(Machine)

第4節　高レーザー損傷耐力を持つ　　　　　光学薄膜作製のための基板表面処理技術１．光学材料の表面変質層２．イオンビームエッチングによる研磨不純物層の除去３．複合表面処理を用いた表面変質層の除去４．光学薄膜のレーザー損傷耐性における　　　　　　　　　　　　　　　　　表面変質層除去の効果

第6章　光学薄膜の膜質・膜厚制御と コントロール

第1節　光学薄膜の膜厚制御技術１．光学式膜厚計　1.1 光学式膜厚計の概要　　1.2 膜厚制御方法　1.3 光学式膜厚制御方法の問題点　1.4 モニターガラスの使い方　　1.4.1 モニターガラス１枚使用例２．水晶式膜厚計

　2.1 指紋付着防止とは　2.2 フッ素系指紋付着防止剤の表面特性　　2.2.1 ガラス用指紋付着防止剤　　2.2.2 樹脂用指紋付着防止剤３．反射防止剤　3.1 反射防止膜材料� 3.2 フッ素系反射防止剤　3.3 弊社の商品であるオプツール AR-110４．ディスプレイ用部材への適応

第3節　耐指紋性・防汚性を付与する　　　　　　　　　　　　　　　表面改質技術とその評価１．機能性コーティング剤について　1.1 機能性膜成分(シリカ、ウレタン、アクリル、フッ素)の評価　1.2 機能性塗膜(防汚、指紋防止、　　　　　　　　　　　　防曇、落書き防止、耐食)の評価　1.3 要求される機能(使用環境・用途、設置場所)の評価　1.4 耐指紋性、防汚性付与　　　　　　　　　　　(超撥水機能、超親水機能)の評価　1.5 汚れ防止機能の持続性　　　　(付着防止性、脱落性、スポット防止性)の考え方２．超撥水コーティングによる表面改質について　　　　　　　　　・疎水性ナノシリカの特徴とその働き　2.1 表面観察、汚れはじき、フラクタル形態での防汚効果　2.2 超撥水での耐候性、油性汚れ対応、耐磨耗での変化　2.3 使用実例での評価まとめ３．超親水コーティングによる表面改質について　3.1 親水化ポリマーの原理とその働き　　3.2 濡れ性、防曇、親水化機能による防汚効果　3.3 セルフクリーニングと持続性、外観の変化　3.4 使用実例での評価まとめ４．耐指紋、防汚性の評価方法について　4.1 汚れ予測シミュレーション　4.2 汚れによる汚染防止評価について　4.3 汚染防止性の基準化について　4.4 各種汚染物によるスポット試験　4.5 汚染物(汗、水性、皮脂、油性、　　　　　　　　酸、アルカリ、界面活性剤)スポット試験　4.6 耐久、耐候性(促進試験、暴露試験、実用試験)　4.7 実使用条件との汚れ具合の相関性、まとめ５．実際の塗膜での防汚機能の劣化と　　　　　　　　　　　　　保証に関する考え方について　5.1 長期性能維持のための保証について　5.2 顧客への保証期間の設定方法と　　　　　　その劣化する事実への説明方法について　5.3 通常の使用条件、使用環境による　　　　　　　　　　　　　モデル事例での紹介について　5.4 実験室データと現場の　　　　　　　　　　　　長期耐候性との相関性について

第4節　UV硬化型ハードコートによる耐擦傷性付与１．バイエルとハードコート２．ハードコートの歴史と現状３．UV硬化系ハードコートの原料系　3.1 ウレタンアクリレート　3.2 デュアル・キュアーとその応用事例４．UV硬化型塗料及びハードコートの特長・耐擦傷性　4.1 UV硬化型塗料の特長　4.2 耐擦傷性・耐摩耗性の向上

第5節　有機-無機ハイブリッドハードコート剤の設計と　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　機能性付与１．有機-無機ハイブリッドハードコート剤の設計２．有機-無機ハイブリッドハードコート剤の調製３．有機-無機ハイブリッドハードコート膜の物性４．機能性付与　4.1 柔軟性の付与� 4.2 親水性/疎水性の付与　4.3 屈折率の制御

第6節　ナノ粒子を用いた　　　　ハードコート膜の設計と反射防止膜への応用１．ナノ粒子配合型ハードコート　1.1 低カーリング型ハードコート　1.2 アンチブロック型ハードコート２．反射防止膜の設計　2.1 低屈折粒子とシミュレーション　2.2 新しい低屈折率粒子の設計３．反射防止膜の実用例　3.1 反射防止膜� 3.2 高機能化(AS性付与)

第7節　超撥水・超親水性薄膜による機能性付与１．撥水性と親水性　1.1 表面エネルギーまたは表面張力と接触角　1.2 臨界表面張力と　　　　　　　撥水・親水性向上のための化学的制御２．超撥水化・超親水化の要件　2.1 ウェンゼルの表面　2.2 カッシー‐バクスターの表面　2.3 超撥水性・超親水性の表面をつくるには　2.4 フラクタル構造と超撥水・超親水３．モスアイ構造と超撥水・超親水

第8節　プラスチック・ガラス表面の親水化と　　　　　　　　　　　　　　防汚・防曇性付与とその評価１．繊維強化プラスチック(FRP)の表面改質　1.1 高分子の設計と合成　1.2 合成高分子によるFRPの表面改質と防汚効果　1.3 高分子の吸着状態と吸着機構の解析　1.4 高分子吸着表面の防汚機構解析２．ガラスの表面改質　2.1 高分子の設計と合成　2.2 合成高分子によるガラスの表面改質と防汚-防曇効果

第7章　光学薄膜への機能性付与技術

第1節　反射防止膜の表面とその分析手法１．AR(Anti reflection)フィルム２．防汚材料　2.1 フッ素系シランカップリング材料　2.2 防汚剤の膜厚と塗布濃度　2.3 片末端と両末端のシランカップリング剤の　　　　　　　　　　　　摩擦と表面エネルギーへの影響３．撥水性発現メカニズム４．指紋付着性能の評価� ５．表面分析手法

第2節　フッ素系指紋付着防止剤による　　　　　　　　　　　　　　反射防止膜への防汚性付与１．フッ素化合物の防汚機能２．フッ素系指紋付着防止剤

第8章　目的・用途に合わせた 光学薄膜の作製技術と光学特性の制御

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第1節　ディスプレイ用透明酸化物薄膜の成膜技術１．透明導電膜の成膜方法　1.1 成膜パラメーター　　1.1.1 酸素導入量� 1.1.2 不純物添加量　　1.1.3 成膜温度� 1.1.4 スパッタ電圧２．透明導電膜を応用したデバイス　2.1 H2Oガス添加による効果　2.2 ITOターゲットへのSi材料微量添加による効果

第2節　タッチパネル用透明導電フィルムの　　　　　　　　　　　　　　　　　　　要求特性と製膜技術１．タッチパネルに於ける導電フィルムの技術動向　1.1 主電極材-ITO膜-� 1.2 ITO代替２．タッチパネル用その他導電材料など　３．透明導電材料の製膜法４．スパッター法によるITOフイルムの成膜法５.今後の技術動向　5.1 フィルム基板投影型タッチパネルの　　　　　　　　　　　　　　　　　ROLL to Roll生産方式

第3節　タッチパネル用ITO膜の成膜技術と低抵抗化１．タッチパネル用ITO膜の概要　1.1 静電容量式タッチパネル用ITO膜　　1.1.1 パターン視認抑制�　　1.1.2 ノイズ対策　1.2 抵抗膜式タッチパネル用ITO膜　　1.2.1 パネルのタッチ機能向上　1.2.2 透過率向上２．ITO膜の成膜技術　2.1 ITO膜の成膜方法　　2.1.1 真空蒸着法� 2.1.2 イオンプレーティング法　　2.1.3 スパッタリング法　2.2 ITO膜の加工方式３．ITO膜の低抵抗化　3.1 低抵抗ITO膜の開発　3.2 低抵抗ITO膜の評価結果　　3.2.1 電気的特性� 3.2.2 分光透過率　　3.2.3 X線回折パターン

第4節　銀ナノワイヤーを用いた　　　　　　透明導電フィルムの成膜技術と膜厚制御１．透明導電材料について２．透明導電性フィルムの特性と応用３．銀ナノワイヤーを用いた透明導電フィルムの構造と特性　3.1 層構成�� 3.2 各層の機能

第5節　有機ＥＬ用透明導電膜の　　　　　　　　低ダメージ低温高速スパッタ成膜技術１．高エネルギー粒子の　　　　　　有機膜表面への入射によるダメージ生成　1.1 電子照射によるPL強度の変化　1.2 Arイオン照射によるPL強度の変化３．ITO透明電極のスパッタ成膜による　　　　　　　　　　　　　　　　有機膜のPL強度の減少４．有機EL素子での検証　4.1 有機EL素子の発光および電流電圧特性　4.2 Al陰極からの電子注入特性　4.3 ITO陽極からの正孔注入特性

第6節　Cat-CVD法による有機EL用バリア膜の形成技術１．水蒸気バリア膜の必要性能２．Cat-CVD法３．Cat-CVD法で低温形成したSiNx膜の特性４．有機ELディスプレイ用プラスチック基板へのバリア膜形成５．Cat-CVDにおけるバリア膜の積層技術６．有機EL素子への実装試験

第7節　スパッタ法による　　　　酸化物半導体薄膜の成膜技術とOLEDへの応用１．有機ELディスプレイのバックプレーン技術について　1.1 技術動向� 1.2 低温ポリシリコン　1.3 酸化物半導体２．スパッタ法による酸化物半導体薄膜の成膜技術　2.1 スパッタカソード� 2.2 IGZOターゲット　2.3 大型スパッタ装置による　　　　　　IGZO TFT特性と有機ELディスプレイへの応用　2.4 IGZO TFT周辺技術

第8節　スパッタリング法による　　　　　　　　　　ガラスへの反射防止膜の作製技術１．透明反射防止膜　1.1 λ/4 単層膜� 1.2 多層膜

３．酸化物のバッファ層形成による　　　　　　　　　　　　　　　　　ITOフィルムの低抵抗化の試み

第20節　高出力レーザー用　　　　　　光学薄膜の作製技術とレーザー損傷耐力１．高出力レーザー用光学薄膜に要求される性能２．レーザー損傷機構３．光学薄膜の設計及び作製技術　3.1 設計　　3.1.1 蒸着材料の選定　　3.1.2 膜構成・設計　3.2 基板　　3.2.1 光学薄膜と基板の相互作用　　3.2.2 基板の表面粗さと不純物　3.3 蒸着　　3.3.1 吸収による影響　　3.3.2 基板温度と蒸着速度による影響

第21節　レーザ用光学素子への成膜技術と高耐力化１．基板　1.1 素材� � 1.2 光学研磨　1.3 表面粗さ� 1.4 表面精度２．成膜技術　2.1 洗浄� � 2.2 光学素子の高耐力化　2.3 低損失薄膜３．耐力評価　3.1 レーザ耐力評価� 3.2 長期レーザ耐力保証４．光学素子の使用上の注意点

第22節　赤外線カット膜の作製技術と　　　　　　　　　　　　　　　　自動車用ガラスへの応用１．近赤外線カット膜の種類　1.1 近赤外線吸収膜　1.2 赤外線反射膜　1.3 赤外線反射膜の形成方法の一例２．自動車用窓ガラスの基礎　2.1 自動車用窓ガラスの種類と製造方法　2.2 自動車用窓ガラスに求められる基本的特性３．自動車用の遮熱窓ガラス　3.1 遮熱性とその指標　3.2 ガラス自体による遮熱　3.3 膜形成による遮熱(強化ガラス)　3.4 膜形成による遮熱(合わせガラス)　3.5 遮熱膜を補完する技術(合わせガラス)４．遮熱ガラスの効果

第23節　調光ミラー薄膜の作製技術と光学特性の最適化１．調光ミラー薄膜２．調光ミラー薄膜の作製とスイッチング特性の評価３．マグネシウム・ニッケル系調光ミラー薄膜の光学スペクトル４．エレクトロクロミック調光ミラーデバイス５．調光ミラー窓ガラス

第24節　真空紫外パルスレーザーによるシリコーンの　　　表面改質とポリカーボネート上への透明保護膜の形成１．シリコーンと光化学表面改質２．ポリカーボネート上へのSiO2透明保護膜の形成

第25節　吸着誘起型エレクトロクロミック現象１．従来のエレクトロクロミック材料２．新しいエレクトロクロミック材料－吸着誘起型３．微絨毛構造化によるAiEC特性の向上４．微絨毛構造化InN膜のAiEC劣化特性

第26節　自己クローニング技術による　　　　　　　フォトニック結晶の作製技術とその応用１．フォトニック結晶２．自己クローニング法とその特徴　2.1 パターンの周期� 2.2 パターンの種類　2.3 材料� � 2.4 基板３．自己クローニング法の応用例　3.1 偏光子�� 3.2 波長板　3.3 面内集積化

第27節　光学多層膜を用いた　　　　　　　　　　　波長可変光フィルタの設計と応用１．波長可変光フィルタ　1.1 フィルタの基本構造　1.2 フィルタを構成する材料　1.3 フィルタ多層膜の作製　1.4 波長可変幅� 1.5 スペクトル形状　1.6 消費電力と応答速度２．波長可変光フィルタの応用

　

第28節　光通信用フィルタにおける　　　　　　誘電体多層膜の最適設計と膜厚制御技術１．利得等化フィルタ　1.1 任意形状の透過率をもつ多層膜設計　1.2 位相予測膜厚制御　　1.2.1 間接型と直視型の光学膜厚モニタ　　1.2.2 位相予測光学膜厚制御　1.3 利得透過フィルタの成膜例２．狭帯域透過フィルタ　2.1 共振構造をもつ多層膜設計　2.2 透過率ピーク予測膜厚制御　2.3 狭帯域透過フィルタの成膜例

第29節　光通信用ポリマーマイクロレンズにおける　　　　　　　　　　　　　　　反射防止膜の密着性向上技術１．光通信用マイクロレンズ　1.1 概要� � 1.2 マイクロレンズの製法２．ポリマーマイクロレンズの課題３．技術内容　3.1 無機ナノ粒子の粒子径　3.2 粒子の表面処理　　3.3 ナノコンポジット樹脂の光学特性　3.4 マイクロレンズとしての耐湿性改善結果

第30節　光導波路用光学薄膜に要求される　　　　　　　　　　　　特性・成膜技術と特性制御技術１．光学薄膜に要求される特性とそれらの取り組み方法、評価方法　1.1 光導波路用光学薄膜　1.2 光学薄膜に要求される特性　　1.2.1 屈折率� 1.2.2 透過率　　1.2.3 膜質� 1.2.4 応力　　1.2.5 レーザー耐性２．検討した光学薄膜の成膜技術と特性制御技術　2.1 光学薄膜の成膜方法の開発目標　2.2 検討した光学薄膜の成膜方法　2.3 電子ビーム(EB)蒸着法により成膜した光学薄膜　2.4 スパッタリング法により成膜した光学薄膜　2.5 プラズマＣＶＤ法により成膜した光学薄膜　　2.5.1 SiH4系ソースを用いた　　　　　　　　　　　プラズマCVD法により成膜した光学薄膜　　2.5.2 アルコレート系液体ソースを用いた　　　　　　　　　　　プラズマCVD法により成膜した光学薄膜　2.6 その他の成膜法により成膜した光学薄膜　2.7 低損失・高比屈折率差用光導波路用に適した光学薄膜３．成膜した光学薄膜のパターニング加工技術４．光導波路と光ファイバとの損失の比較と損失の違いの要因５．導波路型受動部品への応用例

第31節　プラズモン共鳴の高機能フィルタへの応用１．白色LED照明のスペクトル変調による可視光通信２．MIM構造における光と薄膜との相互作用　2.1 有限要素法によるMIM構造の電磁場シミュレーション　2.2 M1層およびI層の厚みに対する依存性　2.3 M2層の厚みおよびI層材質に対する依存性３．真空蒸着法によるMIM構造の試作と吸収dip特性の実際　3.1 成膜装置と評価手法　3.2 膜材質，膜厚測定の重要性　3.3 M層の成膜レート向上による分光反射率特性の変化 　3.4 I層の厚みに依存した分光反射率特性 　3.5 蒸着プロセスの自動化によるMIM構造の再現性　3.6 膜厚モニタリングの必要性４．アクティブ波長フィルタリングにむけて　4.1 電気光学材料の利用　4.2 SPR現象のリアルタイムモニタリング　4.3 MIM製造におけるリアルタイムモニタリング

第32節　テラヘルツ帯光学薄膜１．赤外線～紫外線領域の光学薄膜技術概観２．テラヘルツ波領域の光学薄膜技術概観　2.1 貼り付け機械的研磨法　2.2 有機系材料による光学薄膜技術　2.3 低温プラズマＣＶＤ法

第33節　医療・バイオ分野における　　　　　　光学多層膜干渉フィルターの利用と成膜技術１．光学多層膜干渉フィルターのバイオ・医療分野における利用　1.1 蛍光の検出� 1.2 顕微鏡蛍光観察　1.3 一分子蛍光イメージング�1.4 がん診断への利用２．製造技術発展の必要性　2.1 高い精度への要請� 2.2 製造設備に求められる要件　2.3 低価格化への対応　2.4 バイオ・医療機器の競争力向上に向けて

２．スパッタリング法による絶縁膜の成膜　2.1 マグネトロンスパッタリングと反応性スパッタリング　2.2 絶縁性薄膜の反応性スパッタリング　2.3 高速成膜技術

第9節　デジタルカメラ用レンズへの光学薄膜の成膜技術１．カメラレンズ用反射防止膜の歴史２．デジタルカメラ用レンズの反射防止膜　2.1 撮像素子とフィルムによる反射防止膜の違い　2.2 高屈折率ガラスへの対応　2.3 反射防止膜の種類　2.4 反射防止以外に必要な特性３．デジタルカメラ用レンズ反射防止膜の製造　3.1 デジタルカメラ用レンズに用いられるレンズ基板　3.2 デジタルカメラ用レンズの成膜方法

第10節　産業用カメラレンズへの光学コーティング技術１．色分解光学系の問題点　1.1 入射角度が分光特性に与える影響　1.2 波長シフト量の変化２．色分解光学素子の分光特性改善方法　2.1 光学コーティング面への入射角度　2.2 補正フィルターの設置　2.3 改善された光学系

第11節　ナノ積層PVD法による　光触媒親水性薄膜の成膜技術と光学部品の防曇処理１．光触媒親水性と防曇処理技術２．PVD法による酸化チタン光触媒コーティング３．酸化チタン薄膜と酸化ケイ素薄膜との　　ナノ積層構造による超親水性の発現と防曇処理４．光学薄膜への応用

第12節　ガラス光学部品への紫外線カット付与技術１．紫外線カットフィルタの種類　1.1 干渉型フィルタ　1.2 吸収型フィルタ　1.3 溶融法によるハロゲン化銅(I)微粒子分散ガラスの作製２．新規な方法によるハロゲン化銅(I)微粒子分散ガラスの作製　2.1 ステイン法の概要　2.2 ステイン法によるハロゲン化銅(I)微粒子分散ガラスの作製３．紫外光シャープカットレンズアレイの製造技術

第13節　LED用光学薄膜の最適設計と高品質成膜技術１．RPD装置の構成・特徴２．RPD法によるITO膜について３．LED実装に向けたITO膜の最適化

第14節　Si太陽電池におけるSiOx反射防止膜の形成１．形成膜の組成および光学的特性　1.1 形成膜の組成� 1.2 SiO1.7膜の光学的特性２．Si上SiO1.7膜の界面特性

第15節　太陽電池の光学解析と反射防止膜の最適設計１．光学解析法２．反射防止多層膜のロバスト設計法　2.1 ロバスト最適化アルゴリズム　2.2 P3HT/PCBM型有機太陽電池への適用例

第16節　太陽光集光薄膜の設計・作製技術と　　　　　　　　　　　　　　　　　太陽光パネルへの応用１．集光シート技術　1.1 集光シートの構造� 1.2 集光シートの原理　1.3 集光シートの光配向特性(全方位集光機能)　1.4 集光シートとモスアイシートの比較

第17節　シリコン系薄膜太陽電池用ガラス基板への　　　　　　　　　　　　　　　　　　　透明導電膜の成膜技術１．透明導電膜付きガラス基板の要求性能２．透明導電膜の種類３．フッ素添加酸化スズ薄膜とその成膜法４．酸化スズテクスチャ構造と光散乱性能５．高ヘーズ率ダブルテクスチャTCO

第18節　ZnO系透明導電膜の開発と　　　　　　　　　　　　　　　　CIGS太陽電池への応用１．CIGS太陽電池について２．CIGS太陽電池用透明導電膜に必要な条件３．CIGS太陽電池用透明導電膜の開発４．ZnO系透明導電膜の電気特性と結晶配向性の相関

第19節　色素増感太陽電池における　　　　　　　　　　　　　透明導電膜の作製と低抵抗化１．色素増感太陽電池の構造と発電原理と透明導電基板２．色素増感太陽電池の高効率化と導電基板のシート抵抗