西日本営業所兵庫県尼崎市大浜町2丁目30番地TEL ： ０６‐６４１６‐５２００

つくば営業所茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号TEL ： ０２９‐８８７‐１０１７

四日市営業所三重県四日市市大治田3-3-17TEL ： ０５９‐３４５‐７６１１

ＵＲＬ：http://www.mcet.co.jp

　分析機器・試験装置一覧

分析事業部 営業部

株式会社ＭＣエバテック

2015年11月

　　　　　　　　　　　目　　次

１　主要分析機器 　３～９

２　各種試験装置 　１０～１２

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

元素分析装置 J-SCIENCE 測定元素：水素・炭素・窒素

JM1000HCN 測定方式：自己積分方式

測定範囲：炭素量　0.2～125mg

　　　　 水素量 0.1～10㎎

　　　　 窒素量 0.02～12㎎

試 料 量：数百㎎可能

elementar 測定元素：炭素,水素,窒素,酸素

vario ELⅢ 測定方式：自己積分方式

測定範囲：炭素量　0.004～30㎎

　　　　　水素量　0.002～3㎎

　　　　　窒素量　0.001～10㎎

　　　　　酸素量　0.005～2㎎

検出器 炭素,水素,窒素：TCD，酸素：IR

試料量：数mg～十数mg

高周波誘導結合プラズマ発光分光 サーモフィッシャー CID半導体検出器、マルチ方式

分析装置（ＩＣＰ） IRIS InterpidⅡXSP DUO 水素化物発生装置、超音波ネブライザー装置

サーモフィッシャー CID半導体検出器

iCAP 6300 DUO マルチ方式

パーキンエルマージャパン CCD半導体検出器

Optima　5300DV マルチ方式

パーキンエルマージャパン CCD半導体検出器

Optima　2100DV シーケンシャル方式

島津製作所 シーケンシャル方式

ICPS-8100 水素化物発生装置

日本ジャーレルアッシュ CCD半導体検出器

IRIS/DUO マルチ方式

誘導結合プラズマ質量分析計 アジレントテクノロジー I C P : ソリッドステート式

（ＩＣＰ－ＭＳ） 7500ce 質量範囲：2～260amu

サーモフィシャー コリジョンセル搭載

iCAP-Qc

誘導結合プラズマ質量分析計 アジレントテクノロジー ＨＭＩ機能搭載

（ＩＣＰ－ＭＳ－ＭＳ） 8800シリーズトリプル四重極 マスシフト測定可能

エネルギー分散型Ｘ線分析装置付 走査電子顕微鏡 倍 率：15～10,000倍

走査電子顕微鏡 日立 S-3000N 二次電子分解能：3.0nm

(ＳＥＭ‐ＥＤＸ) 試 料 室 寸 法：最大150㎜φ×50㎜

ＥＤＡＸ 検出可能元素：F～U

ｴﾈﾙｷﾞｰ分散型Ｘ線分析装置（EDX） エネルギー分解能：132eV以下

蛍光Ｘ線分析装置 リガク製 ZSX100e Ｘ線発生装置：Rh管球（3kW）

(ＸＲＦ) （波長分散型） 測定分析元素：F～U

日本電子製 JSX-3400R Ｘ線発生装置：Rh管球

（エネルギー分散型） 測定分析元素：Na～U

検出器 Si（Li）半導体検出器

1.主要分析機器

4

■元素分析

装　置　名　称

2

3

1

5

3 / 12

原子吸光光度計 サーモフィッシャー フレーム、ファーネス

（ＡＡ） SOLAAR M6 水素化物発生装置(HYD-10)

アジレント･テクノロジー フレーム、ファーネス

AA240FS/240Z 水素化物発生装置（VGA77型）

日立 フレーム、ファーネス

Z-2010，Z-5000

水銀分析装置 日本インスツルメンツ 還元気化原子吸光法

（ＡＡ）RA-4500，RA-4300，ﾏｰｷｭﾘｰRA3

SP,MA-1，MD-1 加熱気化・金アマルガム式

平沼 還元気化原子吸光法

HG-200

7

6

■元素分析（つづき）

4 / 12

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

顕微フーリエ変換赤外分光装置 サーモフィッシャー 波 数 範 囲：400～4,000cm-1

（ＦＴ－ＩＲ） Nexus 670 最高分解能 ：0.09cm-1

Continuum 赤外顕微鏡 対物カセグレン倍率：15倍

日本分光 波 数 範 囲：600～4,000cm-1

IRREPORT-100 ダブルビーム、フィルタ回折格子分光器

顕微レーザラマン分光装置 堀場製作所 レーザー ： 内部 532nm,633nm,785nm

（ＬＲ） LabRAM ARAMIS スペクトル域：650～4,000cm-1

　 BX41顕微鏡 焦点距離 ： 460mm

顕微鏡倍率：5倍、20倍、50倍、100倍、50倍(油浸)、マクロ

核磁気共鳴装置 ブルカー・バイオスピン 自己遮蔽型超伝導磁石　磁場強度：7.05テスラ

（ＮＭＲ,固体ＮＭＲ） AU300M 測定可能元素：H,B,C,N,O,F,Al,Si,P,S等

プロトンの共鳴周波数：300.13MHz（6～430MHz）

Ｘ核の共鳴周波数：14～400MHz

ブルカー・バイオスピン ボア内径：85mm（ワイドボア）

AVANCE Ⅲ 400MHz 磁場強度：9.4T（400MHz）　固体NMR測定可

ガスクロマトグラフ質量分析装置 アジレントテクノロジーズ 質量範囲：m/z1.6～1,050

（ＧＣ/ＭＳ） 5975B InertMSD

島津製作所 質量範囲：m/z1.5～1,024

QP2010 ultra，QP2010＋ イオン化法：EI

熱分解ガスクロマトグラフ質量分析装置 フロンティア・ラボ 温度範囲：40～1,000℃

（ＰＹ-ＧＣ/ＭＳ） パイロライザー：PY2020－iD 昇温速度：1～100℃/min

GC/MS:5975B InertMSD

高速液体クロマトグラフ質量分析装置 アジレントテクノロジーズ イオン化法 : ESI、APCI

（ＬＣ－ＭＳ） 1000SeriesLC/MSD 質量範囲：50～3,000 U

1100LC/MSD SYSTEM 液クロ : ﾀﾞｲｵｰﾄﾞｱﾚｲ検出器

Ｘ線回折装置 PANalytical Ｘ線発生装置：Cu管球（3kW）

（ＸＲＤ） Xpert Pro 　　　　　　　最大 60kV-60mA

リガク Ｘ線発生装置：Cu管球（2kW）

Multi Flex 2kW 大口径試料対応試料交換機

集中光学系(Bragg-Brentano型)

(X線計数部側 単色化結晶 グラファイト)

6

4

■構造解析

装　置　名　称

1

2

3

5

7

5 / 12

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

ガスクロマトグラフ装置 島津製作所(GC-2014 他) 検出器：TCD、FID、FPD、ECD、PID

（ＧＣ） アジレント(6890N)

ﾋｭｰﾚｯﾄﾊﾟｯｶｰﾄﾞ（HP-5890A他)

日本電子 GC-310 可搬型

高速液体クロマトグラフ装置 日本ウォーターズ 紫外～可視分光光度検出器(UV/VIS)

（ＨＰＬＣ） alliance 蛍光検出器(FL)

示差屈折率検出器(RI)

島津製作所LC-10A ｼｽﾃﾑ 紫外～可視分光光度検出器(UV/VIS)

島津製作所LC-10AD VP 蛍光検出器(FL)

日立L-6200

アジレント-1100，1200

イオンクロマトグラフ装置 日本ダイオネクス サプレッサー型 溶離液ジェネレータ－

（ＩＣ） ICS-1500，2000 ｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌｨｰﾓｼﾞｭ-ﾙ：陽ｲｵﾝ，陰ｲｵﾝ，有機酸他

検出器：電気伝導度型（0.1～10,000μS）

横河　IC7000RD 検出器：電気伝導度型

メトローム　761ｺﾝﾊﾟｸﾄIC 検出器：電気伝導度型

ポストカラムイオンクロマトグラフ吸光光度計 日立ﾊｲﾃｸﾉﾛｼﾞｰｽﾞ UV-VIS 検出器：L-2420

（ＩＣ-ＰＣ） シアン・臭素酸分析システム

Lachrom Elito 　HATA ｼｽﾃﾑ

ヘッドスペース-ガスクロマトグラフ 島津製作所 質量範囲：m/z1.5～1,024

質量分析装置 QP2010 イオン化法：EI,CI,DI

（ＨＳ-ＧＣ/ＭＳ） パーキンエルマージャパン 質量範囲：m/z10～1,000

Turbo Mass Gold イオン化法：EI

加熱脱着導入システム－ガスクロマトグラフ アジレントテクノロジーズ 質量範囲：m/z1.6～800

質量分析計 5973N InertMSD イオン化法：EI

（ＴＤＳ-ＧＣ/ＭＳ） 5973N-ODP2

※におい嗅ぎ装置付 5975C-ODP2 ＯＤＰ：におい嗅ぎ付

パージ＆トラップ-ガスクロマトグラフ アジレントテクノロジーズ 質量範囲：m/z1.6～800

質量分析装置 5973N InertMSD イオン化法：EI

（Ｐ＆Ｔ-ＧＣ/ＭＳ） パージ＆トラップ濃縮導入装置

Eclipse Series Model4660

キャニスター-ガスクロマトグラフ 日本電子 質量範囲：m/z1.5～1,022

質量分析装置 IMS-AMⅡ50型(GC/MS) イオン化法：EI

（キャニスター-ＧＣ/ＭＳ） GLｻｲｴﾝｽ 大気ガス分析装置キャニスター

　　　 AEROﾀﾜｰｼｽﾃﾑ　ACS-2100

タンデム型ガスクロマトグラフ質量分析装置 ブルカーダルトニクス 質量分析部：トリプル四重極型

（ＧＣ-ＭＳ-ＭＳ） 1200L型 質量範囲：m/z10～1,500u

　 イオン化法：EI,CI,NCI

2

■分離分析

9

4

5

7

1

3

8

装　置　名　称

6

6 / 12

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

熱分解ガスクロマトグラフ質量分析装置 フロンティア・ラボ 温度範囲：40～1,000℃

（ＰＹ-ＧＣ/ＭＳ） パイロライザー：PY2020－ｉD 昇温速度：１～100℃/min

GC/MS:5975B InertMSD

示差熱天秤-質量分析同時測定装置 リガク 温度範囲：室温～1,000℃

（ＴＧ-ＤＴＡ/ＭＳ) ThermoMass Photo 質量範囲：m/z1～410

イオン化法：EI,PI

加熱脱着-ガスクロマトグラフ質量分析装置 日本電子 質量範囲：4～1,000amu

（ＡＴＤ-ＧＣ/ＭＳ) Automass SUN 200 加熱脱着装置：パーキンエルマーTurbo Matrix ATD

（T-DEXⅡ-ＧＣ/ＭＳ） アジレントテクノロジーズ 質量範囲：m/z1.6～800

5973N InertMSD 加熱脱着装置：パーキンエルマーTurbo Matrix ATD

5973N

アジレントテクノロジーズ 質量範囲：1.6～1,050amu

5975C 加熱脱着装置：ジーエルサイエンス　T-DEXⅡ

昇温熱脱着&熱分解質量分析装置 キヤノンアネルバ 測定感度：数10pL

（ＴＰＤ－ＭＳ) 本体：M-401GA-DM MS真空度：10-7Paオーダー

分析部：M-401QA-M 質量範囲：1～410amu

質量分析部：四重極型

イオン化法：EI

分解能：M/△M≧2M（50%ピーク高）

イメージ炉 アルバック理工 加熱帯：φ10mm×100mmL

RHL-E25 温度範囲：室温～1000℃

昇温速度：数10℃/s

破壊測定容器 容器内寸：60mmφ×5mmH

測定対象：気密封止パッケージ（LD、CCD、IC）、

高純度機能性材料（石英ガラス、シリコンウェハ）、

樹脂フィルム　等

in-situ反応器 容器内容積：数mL

温度範囲：室温～1000℃

昇温速度：数10℃/min

■分子量・分子量分布測定

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

ゲル浸透クロマトグラフ装置 日本ウォーターズ 測定範囲：580～200,000ダルトン(PS)

(ＧＰＣ) HPLC(1515)、 RI(2114) 検出器：示差屈折率検出器(RI)

移動相：THF、ｸﾛﾛﾎﾙﾑ

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

走査電子顕微鏡 日立製作所 倍率：30～10,000倍(二次電子像、反射電子像 他)

（ＳＥＭ） S-3000N 二次電子分解能：3.0nm

試料室寸法：最大150㎜φ×20㎜

装　置　名　称

装　置　名　称

装　置　名　称

■形態観察

■発生ガス分析

1

1

4

3

2

1

7 / 12

■熱分析・熱物性

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

熱分析装置 ブルカー・エイエックスエス ＴＧ－ＤＴＡ（示差熱‐熱重量同時測定装置）

（ＴＧ－ＤＴＡ,ＴＭＡ,ＤＳＣ） TAPS3000Sｼﾘｰｽﾞ 温度範囲：室温～1,350℃(TG/DTA2000SR)

ＴＭＡ（熱機械分析装置）

温度範囲：-100～600℃(全膨張式)

：室温～1,350℃(示差膨張式)

ＤＳＣ（示差走査熱量測定装置）

温度範囲：-100～700℃ （DSC 3100SR）

　　　　：室温～1,350℃（DSC 3300）

自然発火試験装置 島津製作所 測定範囲：室温～300℃

（ＳＩＴ－２） SIT-2 雰囲気 ：空気および酸素混合ガス

■粉体特性

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

比表面積／ 細孔分布測定装置 島津製作所 測定方法：水銀圧入式

水銀ポロシメトリ分析装置 オートポアⅣ9520 細孔直径：約500～0.003μm

測定圧力：大気圧～414Mpa

比表面積／ 細孔分布測定装置 マイクロメリティックス 測定方法：定容法によるガス吸着法

ガス吸着法 ASAP-2420､2400､2405　3台 細孔測定範囲：直径0.7～100nm

吸着ガス：N2

日本ベル 測定方法：定容法によるガス吸着法

BELSORP-max、BELSORP-mini 細孔測定範囲：直径0.35～500nm

吸着ガス : N2、CO2､水蒸気、非腐食性ガス

比表面積測定装置 ユアサアイオニクス 測定範囲：比表面積 0.01m2/g以上

モノソーブ MS-21

粒度分布測定装置 島津製作所 測定方法：レーザー回折・散乱法

SALD-2000 測定範囲：0.03～1,000μ m

SALD-2200 ﾃﾞｰﾀｰ処理：積分 / 微分 / 差分の粒度分布

粉体物性測定器 セイシン企業 MT-1000 測定項目：タッピング密度､カサ密度､安息角

(マルチテスター） 流動度（金属粉）､スパチェラ角､凝集度、

崩潰角､分散度､差角、Carrの流動性､噴流性

ゼータ電位測定装置 スペクトリス 測定範囲：3.8nm～100um（直径）

ゼータサイザーナノZ 測定原理：電気泳動光散乱

最小試料量：150uL

感度：10mg/mL（BSA）

温度制御範囲：0～90℃

光源：He-Neレーザー633nm、最大4mW

2

2

3

5

4

1

装　置　名　称

6

1

装　置　名　称

8 / 12

■機械物性

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

微小硬度計 島津製作所 測定項目 ： 硬さ、弾性率、圧縮試験

ダイナミック超微小硬度計 試験力 ： 範囲：0.1～1961mN

（DUH-211） 押込み深さ ： 0～10μ m、測定最小： 0.0001μ m

圧子 ： 三角すい圧子（稜間角115度）

顕微鏡倍率 ： 500倍（対物50倍、接目10倍）

粘弾性測定装置 Anton Paar 最大トルク ： 200mNm

（レオメーター） （MCR　102） 最小トルク（回転） ： 250μ Nm

■その他型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

分光光度分析装置 日立製作所　U-2910,2450 波長範囲 ：190～1,100nm

U-1600，1650 波長範囲 ：190～900nm

日本分光　V-630 波長範囲 ：190～1,100nm

引張圧縮試験器 オリエンテック 測定方法 ：引張、圧縮

テンシロン万能試験機 測定範囲 ：0.05～25kN(2.5tf)

（RTC-1325A) 試験速度 ：0.05～1,000mm/min

ギ－スラ－プラストメ－タ－ 吉田製作所 トルク：10.0mNm

ＹＭ自動式 昇温速度：3℃/min(300～500℃）

流動度：0～ 60,000DDPM

自動ボンベ熱量計 島津製作所 測定範囲：4000～32,000Ｊ

　 CA-4PJ

灰の溶融性試験装置 ニットク　：炉 測定範囲：酸化性雰囲気　900～1,600℃

吉田製作所：制御盤 測定範囲：還元性雰囲気　900～1,600℃

危険物判定装置 吉田科学 タグ密閉式・セタ密閉式引火点試験器

クリーブランド開放式引火点、発火点試験器

ＴＯＣ分析装置 島津製作所 燃焼触媒酸化方式

TOC-VCPH

窒素分析計 三菱化学アナリテック 減圧化学発光法

TN-05 試料：5～200μ L 測定範囲：0.01～500ppm

三菱化学アナリテック CA-100型滴定方式：電量滴定方式

（水分気化装置　VA-22型） 検出感度：0.1ug H2O

CA-07型 滴定方式：電量滴定方式

測定範囲：10μ g～100mgH2O　1mg以上でRSD値0.3%以内

精　度：10μ g～1mgで3μ g以下

10 におい識別装置 島津 化学製品や原料の品質管理や良品不良品の判別

FF-2A 室内や車内など居住空間の臭気評価

2

7

8

3

4

5

6

1

装　置　名　称

9

微量水分測定装置

2

装　置　名　称

1

9 / 12

■蒸留装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

真空ﾛｰﾀﾘｰｴﾊﾞﾎﾟﾚｰﾀｰ EYELA N-21NS型 20L容器　温度：室温～100℃ 圧力：5Torr

柴田科学（SIBATA） 真空制御機能付　温度調節範囲20～180℃　

R-205 回転数調整範囲20～280rpm

■ガス吸脱着性能評価装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

常圧、加圧PSA、PTA試験装置反応管容積：SUS製25mmφX300mm

耐圧：≦10kg/cm2

温度：300℃

悪臭ｶﾞｽ吸着（ｱﾝﾓﾆｱ、硫化ﾒﾁﾙ、硫化水素等）

反応管容積：ｶﾞﾗｽ製25mmφX300mm試験圧力：常圧温度範囲：-20℃～80℃

脱硫脱硝試験

■分離装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

1 超遠心分離機 日立工機 55P-72 回転数：Max 55,000rpm

■熱処理装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

1 可動壁炉 最高温度：1,200℃ 450W×800H×1,200D

2 中規模試験炉 最高温度：1,200℃ 400W×830H×1,200D

3 可動壁試験炉 最高温度：1,200℃ 450W×900H×1,200D

ADVANTEC KM-600 最高温度：1,100℃

日本特殊電気 最高温度：1,100℃ 80L

KOYO 最高温度：1,100℃

東洋製作所　KM-600 使用温度：100～1100℃

5 高温マッフル炉 増田理科工業 最高温度：1,600℃ 18L

6 高温管状炉 最高温度：1,650℃ 80φ

7 ロータリーキルン 最高温度：1,000℃ 150φ×600L

8 低温灰化炉 ヤナコ　LTA－102 プラズマ灰化 常温～200℃

装　置　名　称

装　置　名　称

流通式ガス吸着装置

装　置　名　称

1

4 マッフル炉

2 自社製

２.各種試験装置

触媒活性試験装置 本間理研

最高使用温度：700℃反応管容積：51ml (19.5mmφ×166mm)

耐圧：≦10kg/cm2

流通ガス：Air, N2, H2, CH4, H2O(水蒸気)等※腐食性のガスについては以下流通ガス吸着装置にて測定可能です

1

装　置　名　称

10 / 12

■乾燥装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

コニカルドライヤー 八光産業 GL型 容積：500L(グラスライニング)

加熱方式：水蒸気（間接）

大型熱風乾燥機　Ａ 東海電機 最高使用温度：500℃

内容積：3m3〔1.4(W)×1.4(H)×1.6(D)〕

加熱方式：電機ヒーター（80KW）

供給ガス：Air，N2（加熱器付）

温度制御：プログラムコントローラー

排ガス処理 ： 洗浄塔（水又は酸、アルカリ循環）

大型熱風乾燥機　Ｂ,Ｃ 東海電機 最高使用温度：450℃

内容積：5.8m3〔1.8(W)×1.8(H)×1.8(D)〕

加熱方式：電機ヒーター（80KW）

供給ガス：Air，N2（加熱器付）

温度制御：プログラムコントローラー

排ガス処理 ： 洗浄塔（水又は酸、アルカリ循環）

送風定温乾燥器 東洋製作所 使用温度：0 ～ 280℃

FV-630

通風定温乾燥器 東洋製作所 使用温度：40 ～ 300℃

DRK633DB

■粉砕装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

1 ジョークラッシャー ＜40㎜

2 ダブルロールクラッシャー ＜20mesh

3 ナイフハンマーミル ﾎｿｶﾜﾐｸﾛﾝ　ﾊﾟﾝﾀﾑﾐﾙ AP-B ＜100mesh 200g/min

4 湿式粉砕機 三井三池化工　ｱﾄﾗｲﾀｰ ＜１μm １/ﾊﾞｯﾁ

5 振動式ディスクミル 川崎重工 ＜400mesh 400cc/ﾊﾞｯﾁ

6 流動式カウンター

7 ジェットミル

■混合装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

1 高速カッターミキサー 三井三池化工　ﾍﾝｼｪﾙﾐｷｻｰ 容量 : 12L/ﾊﾞｯﾁ

装　置　名　称

装　置　名　称

装　置　名　称

ﾎｿｶﾜﾐｸﾛﾝ　200AFG 型

1

4

4～50μm 5～150kg/hr

3

2

5

11 / 12

■チャンバー試験装置

型　　式 　　　　　　概　　略　　仕　　様

調湿制御 ：フローメーター

　　　　　(DRY 500mL/分、WET 500mL/分)

換気流量 ：マスフローメーター2系統

　　　　　(1流路 200mL/分)

水タンク ：バブリングタンク１L

洗浄空気 ：超空気洗浄供給装置付

１ｍ3 小形チャンバー ESPEC社製

２ｍ3 大形チャンバー 日測社製

５.５ｍ3 大形チャンバー 日測社製

１５.６m3 簡易大形チャンバー 自社製

発生ガスサンプリング装置 ジーエルサイエンス 300℃までの加熱発生ガス試験可

MSTD-258M-A

マイクロチャンバー試験用システム 自社製 JIS A 1904対応

高温試験対応可

簡易ＴＶＯＣ計 ガステック社

GVC-1000

■オートクレーブ（高圧反応試験装置）

7

8

2

3

4

5

6

ADTEC ADPACｼｽﾃﾑⅢ

装　置　名　称

1 ２０L 小形チャンバー

■オートクレーブ（高圧反応試験装置）

材質 圧力 温度 攪拌機

0.5 L（ ≒ 0.33 L ） SUS316 29MPa 500℃ 電磁誘導インペラ型

2 L （ ≒ 1.3 L ） SUS316 29MPa 300℃ 電磁誘導インペラ型

10 L （ ≒ 6.5 L ） SUS316 9.8MPa 600℃ 電磁誘導インペラ型

10 L （ ≒ 6.5 L ） SUS316 １.9MPa 600℃ 攪拌機なし(受器型)

20 L （ ≒ 13 L ） SUS316 9.8MPa 200℃ 電磁誘導インペラ型

容量（最大仕込量）

1

12 / 12