МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光
-
Upload
sonya-james -
Category
Documents
-
view
75 -
download
7
description
Transcript of МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光
![Page 1: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/1.jpg)
Научно-технологический парк БНТУ «Политехник»白俄罗斯国立技术大学 « 理工 » 科技园
Научно-инженерное республиканское унитарное предприятие «Полимаг»
国家统一企业 « 聚合材料 » 科学工程企业
Тема доклада: Формирование сверхгладких бездефектных поверхностей магнитно-абразивным полированием для оптики, лазерной техники,
электроники и нанотехнологий报告题目:磁研磨抛光成型加工超光滑无瑕疵表面,用于光学技术、激光技术、
电子技术和纳米技术www.polimag.icm.by
Автор доклада 报告的作者 :директор НИРУП «Полимаг»,
к.т.н. Хомич Н.С.国家统一企业 « 聚合材料 » 科学工程企业经理
技术科学副博士 霍米奇 . N . C
![Page 2: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/2.jpg)
МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ
ПОЛИРОВАНИЕ磁研磨抛光
Ферроабразивный порошок под действием магнитного поля приобретает вид «эластичной щетки» и полирует поверхность изделия.
铁研磨粉在磁场作用下获得弹性刷状可抛光制品的表面Импульсное магнитное поле «встряхивает» структуру материала
и выводит на поверхность слабозакрепленные дефекты.脉冲磁场 « 振荡 » 材料的结构并将弱加固性缺陷引入表面。
Формируется бездефектный приповерхностный слой.形成无缺陷性表面层。
Финишное магнитно-абразивное полирование пластин монокристаллов кремния (подложки интегральных схем),
оптических стекол и фторидов бария, кальция и магния (оптически активные элементы силовых лазерных устройств)
обеспечивает формирование нанорельефа поверхностей с высотой неровностей менее 20-и ангстрем,что соответствует лучшим мировым образцам
最终磁研磨抛光单晶硅片(集成电路基板)、光学玻璃和氟化钡、钙和镁(高功率激光装置光学活性成份)可保证形成表面微地形,表面粗糙度低于 20 埃米。
![Page 3: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/3.jpg)
ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ光电技术零件的抛光
Привод диска
Станина
Опора
Привод полюса
Полюс
Ферроабразивный порошок
Пласти-на
Катушка
Диск
М А Г Н И Т Н О - А Б Р А З И В Н А Я О Б Р А Б О Т К А [email protected]
Установка 3905Схема установки- диаметр полируемых пластин, мм < 300
- толщина пластин, мм < 10 Примеры применения:- характеристика шероховатости - полирование пластин монокристаллов кремния - полированной поверхности Ra, нм 0,8 – 2,0 подложек интегральных схем,- потребляемая энергия, кВт 2,0 - полирование плоских поверхностей оптических - габариты: L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3 стекол, фторидов, керамических и других- масса, кг 250 материалов оптики и электроники
![Page 4: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/4.jpg)
ПОЛИРОВАНИЕ ДЕТАЛЕЙ ОПТИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ光电技术零件的抛光
磁盘驱动
托架
支架
磁极驱动
磁极
铁研磨粉
薄片
线圈
圆盘
磁研磨处理 [email protected]
安装 3905 安装图解
- 抛光板直径,毫米 < 300- 薄片厚度,毫米 < 10 :- 特征粗糙度 -Ra 抛光表面,纳米 0,8 – 2,0 -- 能耗,千瓦特 2,0- 尺寸 : L х B х H, м 1,0 х 0,7 х 1,3- 质量,千克 250应用举例:抛光单晶硅片 - 集成电路基板 – 抛光光学玻璃平面、氟化物、陶瓷及其它光电材料。
![Page 5: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/5.jpg)
Изотропность нанорельефа пластины кремния диаметром 150 мм
直径为 150 毫米的硅晶片微地形的各向同性
磁研磨处理 [email protected]
![Page 6: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/6.jpg)
The technology of magnetic-abrasive polishing The technology of magnetic-abrasive polishing high-precision flat surfaceshigh-precision flat surfaces MA08MA08
Technical characteristics:
Diameter of parts – 20…200 mm
Parts thickness – < 5 mm
Time of polishing – 2…15 min
Power input – 1,5 kW
L×B×H – 700×700×500 mm
Weight – 80 kg
The setup model MA08 is used for ultrathin polishing of high-precision flat parts surfaces of optics, electronics and laser technologies.
![Page 7: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/7.jpg)
Пластина монокристалла кремния после полирования в магнитном поле TTV = 2,9 мкм
在 TTV = 2.9 微米磁场里抛光后的单晶硅板
![Page 8: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/8.jpg)
Топограмма поверхности пластины монокристалла кремния после полирования в магнитном поле Ra = 0,72 nm
在 Ra = 0.72 nm 磁场里抛光后的单晶硅板表面内存储信息图示
![Page 9: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/9.jpg)
Топограмма поверхности пластины монокристалла CaF2 после полирования в магнитном поле Ra = 1,537 nm
在 Ra = 1.537 nm 磁场里抛光后的 CaF2 单晶硅板表面内存储信息图示
![Page 10: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/10.jpg)
Программно-управляемый комплекс для полирования прецизионных поверхностей
用于抛光精密表面的程序管理系统
![Page 11: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/11.jpg)
The computer controlled magnetic-abrasive polishing technology for optical aspherical surfaces А09
Technical characteristics:
Diameter of parts – under 100 mm
Time of polishing – 2…15 min
Power input – 1,5 kW
L×B×H – 700×600×500 mm
Weight – 80 kg
Technology is intended for correction of polished optical surface figure errors. Correction technique is automatic surface scanning with flexible tool which has reproducible influence function.
![Page 12: МАГНИТНО - АБРАЗИВНОЕ ПОЛИРОВАНИЕ 磁研磨抛光](https://reader031.fdocument.pub/reader031/viewer/2022012308/56812a53550346895d8da412/html5/thumbnails/12.jpg)
Интерферограммы поверхности оптической детали до МАП (а) и после МАП (б)
磁化前( a )和磁化后( b )光学零件表面干扰图
PV=1,349 fr PV=0,370 fr а) RMS=0,371 fr б) RMS=0,053 fr
Power=-1,192 fr Power=-0,130 fr Ra = 13,9 nm Ra = 1,5 nm - улучшение формы в 3-5 раз за одну итерацию - снижение параметров нанорельефа в 8-10 раз.- 一次迭代内形态改进 3-5 次。- 微地形参数降低 8-10 倍。