核を持つ多孔質粒子の液体クロマト グラフィー用充...

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1 クロマニック テクノロジーズ ○長江 徳和、塚本 友康 Norikazu Nagae, Tomoyasu Tsukamoto Email: [email protected] http://chromanik.co.jp 核を持つ多孔質粒子の液体クロマト グラフィー用充填剤としての特徴

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クロマニック テクノロジーズ

○長江 徳和、塚本 友康

Norikazu Nagae, Tomoyasu TsukamotoEmail: [email protected]

http://chromanik.co.jp

核を持つ多孔質粒子の液体クロマトグラフィー用充填剤としての特徴

Page 2: 核を持つ多孔質粒子の液体クロマト グラフィー用充 …chromanik.co.jp/technical/pdf/lctechno2013d.pdfVan Deemter の式のB項が小さくなる さらに,核の存在により,核の回りの多孔質シリカ層は薄く,同じ粒子径の全多孔性シリカより多孔質内での物質移動距

SunShellシリカのコアシェル構造の概略図

粒子径:2.6 mm,コア径:1.6 mm,多孔質層の厚さ:0.5 mm細孔容積:0.30 mL/g,比表面積:150 m2/g,細孔径:9 nm多孔性シリカの体積の割合:77%

0.5 mm

2.6 mm コア

多孔性シリカ部

0.5 mm

コア

多孔性シリカ部

2.6 mm

2

1.6 mm

モノレイヤー(単層)多孔質構造

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Van Deemterの式

31. F. D. Antia and C. Horvath, J. Chromatogr., 435 (1988) 1-15.

A項 : 多流路拡散、渦巻き拡散 : 粒径をdp

B項 : カラム軸方向への拡散、アナライトの移動相中の拡散係数をDm

C項 : 物質移動の項 : 固定相-移動相での物質移動、粒子内での

拡散による物質移動に依存

H

u

A項B項

C項

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全多孔性とコアシェル型の理論段高さの比較

0

2

4

6

8

10

12

14

16

18

0 5 10 15

Plat

e He

ight

, um

Mobile Phase Velocity, mm/sec

Fully porous 5 um

Fully porous 3 um

Fully proous 1.8 um

Core Shell 2.6 um

Column: C18, 50 x 4.6 mmMobile phase: Acetonitrile/water=(60/40)Temperature: 25 oCSample : Naphthalene

4

Fully porous 2.6 um

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0

5

10

15

20

25

30

35

40

45

0 0.5 1 1.5

Pres

sure

, MPa

Flow rate, mL/min

Sunniest C18-HT 2.0 umBrand A C18 1.9 umBrand B C18 1.8 umBrand C C18 1.7 umBrand D C18 2.6 umSunShell C18 2.6 um

Sub2mmカラムとコアシェル型カラムとの圧力比較

Column dimension: 50 x 2.1 mmMobile phase: Acetonitrile/water=(70/30)Temperature: 25 oC

5

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Volu

me

(%)

Particle size (mm)

A社コアシェル粒子の粒度分布

6

Coulter counter

D90/D10=1.12

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多流路拡散・渦巻き拡散が小さくなる

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粒度分布の広い充填剤(一般的な全多孔性シリカ,粒子間空隙率:35%~40%)

粒度分布の狭充填剤 (コアシェルシリカ,粒子間空隙率:30%~35% )

多流路拡散、渦巻き拡散が小さくなる AdpのAが小さくなる

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エディ拡散に対する粒度分布の影響

8Daneyko et al. Anal. Chem. 2011, 83, 3903–3910

(多流路拡散,渦巻き拡散)

コンピュータ上で充填状態を作り出す

密に充填

粗く充填粒度分布に関係なく

密な充填状態がエディ拡散を小さくする

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実際の充填

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●●●

●●

●●

●●●

●●

●●

●●

ランダムに粒子は分散ポンプで加圧して,カラムに充填

●●

●●●●

●●

●●●● ●●

●●●

●●●

●●

● ●●

●● ●

●●

●●●

実際にはコンピュータでシミュレーションする様にはできない

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カラム軸方向への拡散の差

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全多孔性充填剤

コアシェルシリカ

細孔のないコアの存在により、カラム軸方向の拡散が阻害される B項が小さくなる

溶質は細孔内も粒子外と同様に拡散する

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低流速時の理論段高さ

0

4

8

12

16

20

0 0.2 0.4 0.6 0.8 1

25℃ core shell 2.6 um

40℃ core shell 2.6 um

40℃ totally porous 2um

Plat

e he

ight

(μm

)

2倍以上の差

ほぼ同じ理論段高さ(段数)

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Flow rate (mL/min)

Column: SunShell C18 2.6 mm, 50 x 2.1 mmtotally porous 2 mm 50 x 2.1 mm

Mobile phase: Acetonitrile/water=(60/40)Sample : Naphthalene

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『拡散による物質移動(の遅れ)』はC項に関係している

0

2

4

6

8

10

12

14

16

18

0 2 4 6 8

Plat

e He

ight

, um

Mobile Phase Velocity, mm/sec

Fully porous 5 umFully porous 3 umFully proous 1.8 umCore Shell 2.6 um

12

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???

13

もし全多孔性シリカでも粒度分布が揃っていたら

A項が小さくなり,理論段高さは下がるか(段数は上がるか)?

もしコアシェル粒子でも粗く充填したら(充填密度が低い場合には)

A項が大きくなり,理論段高さは下がらないのか(段数は上がらないのか)?

はい Yes

はい No

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粒度分布の比較

14Santasania et al. Poster presentation, P-332-Mon, HPLC 2012

全多孔性粒子 コアシェル粒子

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Van Deemter Plot の比較

15Santasania et al. Poster presentation, P-332-Mon, HPLC 2012

H/d

p

NNCH3

Cl

O

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Van Deemter Plot の比較

16Santasania et al. Poster presentation, P-332-Mon, HPLC 2012

理論段高さが低い

密に充填

理論段高さが高い

粗く充填

B項は同じ

H/d

p

NNCH3

Cl

O

C項も同じ

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Van Deemter Plot の比較

17Santasania et al. Poster presentation, P-332-Mon, HPLC 2012

コアシェル粒子理論段高さが高い

粗く充填

全多孔性粒子理論段高さが高い

粗く充填

B項は異なるC項は異なる

H/d

p

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コアシェル構造の利点

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Van Deemter の式のA項,B項およびC項が小さくなる

非常に狭い粒度分布の核(フューズドシリカ)が入手できるため,コアシェル粒子は粒度分布が狭く,密な充填が比較的簡単にできる。この密な充填がA項を小さくする

コアが溶質の拡散を妨害し,溶質のカラム軸方向への拡散が抑えられるため,B項が小さくなる

多孔質層が薄く,多孔質内での溶質の拡散距離(移動距離)が短くなるため,C項が小さくなる

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コアシェル構造の欠点

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表面多孔質層の厚みにより変動するが,多孔質層の粒子全体に対する割合は80%から60%であり,保持や試料負荷量が全多孔性に比べ20%から40%減少する

しかし分析用途に限れば,過負荷になるほど試料注入する事は希であり,問題になることは少ない

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まとめ

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コアシェル型充填剤は多孔質シリカ内部に核を持っており,こ

の核の粒度分布が狭いため,コアシェル粒子は非常に狭い

粒度分布になり,高い充填密度が達成されるため,Van Deemterの式のA項が小さくなるまた,この核の存在がカラム内での溶質の拡散を妨ぐため,

Van Deemterの式のB項が小さくなるさらに,核の存在により,核の回りの多孔質シリカ層は薄く,

同じ粒子径の全多孔性シリカより多孔質内での物質移動距

離が短くなり, Van Deemterの式のC項が小さくなるコアシェル型充填剤は全多孔性充填剤の約1.4倍の理論段数が発揮される