Ch 2 , 巨磁电阻( GMR )效应

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Ch 2 , 巨磁电阻( GMR )效应. 本节内容 1 ,振荡的层间耦合( 1986 ) 2 ,金属量子阱中的自旋极化 3 , GMR 效应( 1988 ) 重点: Mott 的两流体模型. 1 ,层间耦合. 问题的提出? 相邻 FM 层间的耦合作用与中间 NM 分隔层的厚度有关? 多层膜中的电子的本征状态?. Grunberg (1986 ) 布里渊散射 Fe/Cr/Fe. FM 层间的振荡耦合 ―― 普适现象. Parkin 的贡献 ( 1990 ) Co/Ru , 振荡周期 约 12 埃. - PowerPoint PPT Presentation

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Ch 2 , 巨磁电阻( GMR )效应

本节内容1 ,振荡的层间耦合( 1986 )2 ,金属量子阱中的自旋极化3 , GMR 效应( 1988 )

重点: Mott 的两流体模型

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1 ,层间耦合 问题的提出?

相邻 FM 层间的耦合作用与中间 NM 分隔层的厚度有关?

多层膜中的电子的本征状态?

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Grunberg (1986 )

布里渊散射

Fe/Cr/Fe

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FM 层间的振荡耦合――普适现象

Parkin

的贡献( 1990 )

Co/Ru , 振荡周期 约 12 埃

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FM 层间的振荡耦合――直接观察( SEMPA )

Unguiris 等(1991)

Fe 单晶 /

Cr 尖劈 /

Fe 薄膜

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FM 层间的振荡耦合―― VSM

阎明朗等1994 , NiFe/Mo/NiFe

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2 ,多层膜中,电子的状态 真空中的金属薄膜行波――平行方向 电子连续谱 E ( k// ) =k// 2

驻波――垂直方向 电子分立谱 E (k )⊥

波函数是由包络函数调制的快振荡的 Bloch 函数Bloch 函数 的波长 = 2a ( a 晶格常数)包络函数波长由薄膜厚度决定。(厚度是半波长整数倍)

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薄膜上的量子阱态

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铁磁金属薄膜(自旋极化的)量子阱s - d 散射机制

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薄膜 Cu ( 100 )在 fcc Co ( 100 )基底上

自旋极化的光发射谱(下左图)

能带结构图 (下右图)

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层间耦合的理论 • 计算不同的 NM 厚度、不同的自旋状态的总能量。

• 比较哪个磁状态有利?

• 总能量→库仑作用→ DOS→ 波函数→非磁层厚度、铁磁层自旋状态。

• 注意:长程静磁(偶极)耦合!

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交换作用 ( 1 )氢分子三重态或单态←交换作用符号← 电子云(波函数)的重叠情况←电子波函数性质

( 2 ) RKKY 作用铁磁或反铁磁态←交换作用的振荡←f 电子自旋之间,通过 s 电子间接交换作用← f 电子局域波函数+ s 电子平面波波函数

振荡周期决定于 s 电子 Fermi 波长

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铁磁金属量子阱 FM/NM/FM 中,

铁磁层间的振荡耦合

铁磁 FM 层之间的耦合能量,随非磁层厚度增加而振荡

振荡周期(波矢)为(与自由电子气比较)

各种 3d 、 4d 金属的结果相近? 11—12A

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反铁磁金属量子阱

AFM/NM /AFM 蔡健旺等NiFe/ FeMn/ Cu / FeMn

困难:反铁磁体的“ 磁化特性”

方法:交换偏置表征

振荡周期:加倍( 21A) 10 20 30 40 50

0

10

20

30

40

50

60

Exc

hang

e bi

as (

Oe)

Thickness of Cu spacer (A)

28A 26A

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第二次( 11 月 10 日)

上一次 的 内容( 1 ) FM/NM 多层膜中, 相邻 FM 层之间的耦合 随 NM 层厚度变化→振荡衰减

( 2 )单层厚度为若干纳米

( 3 ) NM 层中电子处于“磁性量子阱”

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关于上述( 2 ),多层膜中单层膜厚度 t 的限制

金属: t (≈ 2nm )《 λ(≈20nm) 《 Ls (≈200nm )

a ,增大分子。需远小于自旋弛豫长度。两流体近似。

b ,减小分母。需远小于平均自由程。弹性散射。

* 平均自由程 λ ( 10 - 30 纳米) 自旋弛豫长度 Ls ( 100 - 500 纳米)

00 )( RRRMR H

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巨磁电阻( GMR )效

Fert ( 1988 ) Fe/Cr 超晶格!

Grunberg ( 1986 )相邻磁矩反铁磁排列

MBE 优质材料反平行 --- 高电阻态 平行 --- 低电阻态

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Mott 两流体模型 (1)

N.H.Mott,Proc.Roy.Soc. A153,699(1936)

近似:电子与(热激发)自旋波散射可以忽略, (无自旋翻转) 只考虑电子与磁性离子自旋间的散射。 ( s - d 散射)

约定:与磁矩同方向的电子处于主要子带( majority ) 相反方向自旋电子处于次要子带( minority )

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两流体模型( 2 )散射过程中没有自旋反转--理想的假设 S↓ 电子 被 d ↓(minority ) 电子散射,对电导贡献小 ( d ↓ 有效质量太大 ) S↑ 电子未被 d ↑ ( majority )电子散射,对电导贡献大 ( d ↑ 在 Fermi 面没有状态 )

结果:

电导的自旋相关因子

1

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Mott 模型和 GMR 效应( 2 ) 按 Mott 模型(看上图)1 ,电子自旋与所在层磁矩 相同时, s 电子与( Majority ) d 电子散射弱,

电子自旋与所在层磁矩 相反时, s 电子与( Minority ) d 电子散射强。

R

R

RR

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GMR 效应的物理机制:电子平均自由程与自旋相关 λ↑ ≠ λ↓ 。

(R+ + R-)/2

结构保证条件 平均自由程 λ >> 单层膜厚 t

(R+ + R-) / 2

RAP

R-

r+

RP

并联电路中,小电阻是关键---短路效应

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Mott 模型和 GMR 效应( 3 ) 2 ,如果,平均自由程 (单层厚度)

磁电阻比率

其中,

1

11

RRR

4

RRR

22

2

2

2

111

1

RRRR

RRR

MR

t

1

R

R

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插入纳米氧化层 (NOL)---

镜面 GMR 自旋阀( spin-valve )

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λ↑―― 因为界面的近弹性散射( R→ 1 ),而大大增加。λ↓―― 总是被自旋散射衰减。与界面状况无关。

得到强条件:自旋向上电子平均自由程 λ↑>> λ↓

“ 镜面反射层” 使自旋阀更像多层膜

NOL

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MR 比率大幅度提高,交换偏置场不变 ( 卢正启等 2002 )

Structure : Ta 3.5nm/NiFe 2/IrMn 6/ CoFe 1.5 / Nol1 / CoFe 2/Cu 2.2/ CoFe 1.0 ~4.0 / Nol2/Ta 3

-2

0

2

4

6

8

10

12

14

16

-600 -400 -200 0 200 400 600

H ( Oe )

MR

( %

)

-202468

10121416

-50 -40 -30 -20 -10 0 10 20 30 40 50

H ( Oe )

MR

( % )

镜面 自旋阀MR ~ 15% Hf ~5Oe Hex ~ 400OeHc1 ~4Oe

普通自旋阀MR ~8 %Hf ~ 20OeHex ~350OeHc1 ~3Oe

High Field

Low Field

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模型 NOL 由不连续 is composed of discrete NOL slices and “bridge” b

etween FM and AFM layers ( as following Figure) -----Length of slice > MFP

实验 Method: Closs section HRTEM

(With Shen.F; Zhang.Z; Wang. Y.G; Cai.J.W; Lu.Z.Q)

Pinning Layer—IrMn

Spacer—Cu

Free Layer—CoFe Pinned LayerCoFe

NOL Slice

FM Bridge Model: Tiles on the floor

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证据之二Potential barrier at the nano-oxide Layer

by using electron holography technology

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结束

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问题( 1 )多层膜的磁滞回线?

答: a , M―H 关系: H 之下,体系的磁化状态 由总自由能量极小条件确定

c , FM 排列时, 外场能+磁晶各向异性能(几个奥)

d ,反铁磁排列时, 外场能+磁晶各向异性能(几个奥) +层间反铁磁耦合能(几百奥)